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GL150/300 CLIV 下一条 上一条 < 返回

150/300mm 量产型高精度紫外纳米压印光刻设备
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GL150/300 CLIV 是澳门新莆京app9817最新型全自动高精度紫外纳米压印设备,标配澳门新莆京app9817CLIV(Contact Litho in Vacuum)压印技术,可实现最大150/300mm基底面积上高精度(优于10nm )、高深宽比(优于10比1 )纳米结构复制量产。

该设备支持cassette to cassette自动上下片、自动复制柔性复合工作模具,工作模具自动更换。整个工艺过程在密闭洁净环境中进行,以保证压印结果质量。CLIV技术的应用保证了大面积纳米压印过程中结构精度与高深宽比结构的完整填充,同时保证了大面积结构压印均匀性。

GL150/300 CLIV纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导(包括斜齿光栅)、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的量产。

主要功能

● 全自动150/300mm大面积、高精度、高深宽比纳米压印生产线

●CLIV技术,确保压印结构精度与结构填充完整性

●Cassette to cassette自动上下片,光学巡边预对位

●设备内自动复制柔性复合工作模具,同时支持自动更换工作模具,适合连续生产

●自动对位、自动压印、自动曝光固化、自动脱模,工艺过程在密闭洁净环境中自动进行,以保证压印质量

●标配高功率紫外LED面光源(365nm,光强>1000mW/cm2 ),水冷冷却,特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制,完美支持各种商用纳米压印材料

●产能可大于40片每小时,适合DOE、AR/VR衍射光波导(包括斜齿光栅)、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的量产

●随机提供全套纳米压印工艺与材料,包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构等工艺流程,帮助客户零门槛达到国际领先的纳米压印水平


设备照片

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相关参数

兼容基底尺寸 GL150 CLIV:2inch、3inch、100mm、150mm
GL300 CLIV:200mm、300mm
特殊尺寸可定制
支持基底材料 硅片、玻璃、石英、塑料、金属等
上下片方式 Cassette to cassette全自动上下片
晶圆预对位 光学巡边预对位
纳米压印技术 CLIV技术,适合高精度、高深宽比纳米结构压印
压印精度 优于10纳米*
结构深宽比 优于10比1*
残余层控制 可小于10nm*
紫外固化光源 紫外LED(365nm)面光源,光强>1000mW/cm2,水冷冷却(2000mW/cm2类型光源可选配)
设备内部环境控制 标配,外部环境Class 100,内部环境可达Class 10*
自动压印 支持
自动脱模 支持
自动工作模具复制 支持
自动工作模具更换 支持
模具基底对位功能 自动对位(选配)
产能 可大于40片每小时*


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