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GL8 CLIV Gen2 下一条 上一条 < 返回

200mm 高精度紫外纳米压印光刻设备
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GL8 CLIV Gen2是澳门新莆京app9817新型全幅高精度紫外纳米压印设备,标配澳门新莆京app9817CLIV(Contact Litho in Vacuum)压印技术,可实现200mm基底面积上高精度(优于10nm )、高深宽比(优于10比1 )纳米结构复制量产。

GL8 CLIV Gen2 & GL12 CLIV Gen2 2inch/100/150/200mm  & 2inch/100/150/200/300mm是澳门新莆京app9817新型全幅高精度紫外纳米压印设备,可实现200/300mm基底面积上高精度(优于10nm )、高深宽比(优于10比1 )纳米结构复制量产。
该设备支持自动复制柔性复合工作模具,工作模具具有精度高,寿命长等特点,可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。保证了大面积纳米压印过程中结构精度与高深宽比结构的完整填充,同时保证了大面积结构压印均匀性。
GL8/12 CLIV纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导(包括斜齿光栅)、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的量产。

主要功能

● 经过量产验证的200mm大面积、高精度、高深宽比纳米压印

● CLIV技术,确保压印结构精度与结构填充完整性

● 设备内自动复制柔性复合工作模具,降低大面积纳米压印模具使用成本

● 自动对位、自动压印、自动曝光固化、自动脱模,工艺过程无需人工干预

● 标配高功率紫外LED面光源(365nm,光强>1000mW/cm2 ),水冷冷却,特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制,完美支持各种商用纳米压印材料

● 标配设备内部洁净环境与除静电装置

● 随机提供全套纳米压印工艺与材料,包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构等工艺流程,帮助客户零门槛达到高质量的纳米压印水平

设备照片

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相关参数

兼容基底尺寸 2inch、100mm、150mm、200mm
特殊尺寸可定制
支持基底材料 硅片、玻璃、石英、塑料、金属等
上下片方式 手动上下片
晶圆预对位 机械夹持预对位,可选装光学巡边预对位
纳米压印技术 CLIV技术,适合高精度、高深宽比纳米结构压印
压印精度 优于10纳米*
结构深宽比 优于10比1*
残余层控制 可小于10nm*
紫外固化光源 紫外LED(365nm)面光源,光强>1000mW/cm2,水冷冷却(2000mW/cm2类型光源可选配)
设备内部环境控制 标配,外部环境class 100,内部环境优于Class 10*
自动压印 支持
自动脱模 支持
自动工作模具复制 支持
模具基底对位功能 自动对位(选配)


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