GL300 MLA是澳门新莆京app9817新型专门为晶圆级光学加工(Wafer Level Optics - WLO)开发的全自动紫外纳米压印光刻设备,可在200/300 mm基底面积上平行复制生产聚合物光学器件。
GL150 CLIV & GL300 CLIV是澳门新莆京app9817新型全自动高精度紫外纳米压印设备,标配澳门新莆京app9817CLIV(Contact Litho into Vacuum)压印技术,可实现最大150/300mm晶圆面积上高精度(优于10nm*)、高深宽比(优于10:1*)纳米结构复制量产。
UniPrinter是一种专门为大学、科研院所和企业产品研发所设计,操作简单、功能强大的台面型纳米压印光刻设备。
GL300 Cluster是功能强大的全自动纳米压印光刻生产线,它集成了从纳米压印晶圆预处理工艺,直至纳米压印光刻全套工艺步骤。
GL8 CLIV Gen2是澳门新莆京app9817新型全幅高精度紫外纳米压印设备,标配澳门新莆京app9817CLIV(Contact Litho into Vacuum)压印技术,可在200mm以下晶圆面积上实现高精度(优于10nm*)、高深宽比(优于10:1*)纳米结构复制。
GL8 MLA Gen2是一种专门为晶圆级光学加工(Wafer Level Optics - WLO)工艺开发的全幅紫外纳米压印设备,可在200mm以下晶圆上平行复制生产微纳光学器件。
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