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面板级纳米压印光刻设备 下一条 上一条 < 返回

GL P2 CLIV
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GL P2 CLIV是澳门新莆京app9817新型面板级全幅高精度紫外纳米压印设备,标配澳门新莆京app9817CLIV(Contact Litho into Vacuum)压印技术,可在G2面板(370x470mm)上实现高精度(优于10nm*)、高深宽比(优于10:1*)纳米结构复制。

该设备支持自动复制柔性复合工作模具,工作模具具有精度高、寿命长等特点,可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。CLIV技术的应用保证了压印结构的精度与高深宽比结构的完整填充,同时保证了大面积结构压印均匀性。GL P2 CLIV纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导(包括斜齿光栅)、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列、裸眼3D等应用领域的研发和量产。

主要功能

  • 2代线面板级高精度、高深宽比结构纳米压印设备;

  • CLIV技术,确保压印结构精度与填充完整性;

  • 设备内自动复制柔性复合工作模具,降低大面积纳米压印模具使用成本;

  • 工作模具自动更换,适合连续生产;

  • 自动压印、自动曝光固化、自动脱模,工艺过程无需人工干预;

  • 标配高功率紫外LED线光源(365nm,光强>2000mW/cm2),水冷冷却,掩模区域曝光功能、面光源、特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制,完美支持各种商用纳米压印材料与制程;

  • 标配设备内部洁净环境与除静电装置;

  • 随机提供全套纳米压印工艺与材料,包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构以及微透镜阵列、柱状透镜阵列等工艺流程,帮助客户零门槛达到国际领先的纳米压印水平。

设备照片

GL P2 CLIV 大背景.png

相关参数

兼容基底尺寸

200mm&300mm晶圆、300x300mm、370x470mm

特殊尺寸可定制

支持基底材料

硅片、玻璃、石英、塑料、金属等

上下片方式

单片机械手自动上下片

纳米压印技术

紫外纳米压印(UV-NIL),CLIV技术,适合高精度、高深宽比纳米结构压印

压印精度

优于10纳米*

结构深宽比

优于10比1*

残余层控制

小于10nm*

紫外固化光源

紫外LED(365nm)线光源,光强>2000mW/cm2,水冷冷却(面光源以及掩模区域曝光功能可选配)

设备内部环境控制

标配,外部环境class 100,内部环境优于Class 10*

自动压印

支持

自动脱模

支持

自动工作模具复制

支持

自动工作模具更换

支持


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